台積電:A16 製程不一定要用艾司摩爾 High NA EUV

2024-05-15 09:01:00    編輯: 中央社
導讀 業務開發資深副總經理張曉強 14 日表示,台積電 A16 製程節點不一定要用到艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。 路透社報導,張曉強在荷蘭阿姆斯特丹研討會表示,...


業務開發資深副總經理張曉強 14 日表示,台積電 A16 製程節點不一定要用到艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。

路透社報導,張曉強在荷蘭阿姆斯特丹研討會表示,A16廠設計可能容納High-NA EUV,但並非定案。台積電是艾司摩爾一般極紫外光曝光機的最大客戶。

14日稍早,台積電歐洲子公司總經理狄波特(Paul de Bot)也在荷蘭研討會透露,台積電德國歐洲首座廠擬於第四季動工。狄波特表示,建廠作業進行中。

台積電去年8月同意投資35億歐元(約新台幣1,222億元),在德國設立首座歐洲晶圓廠。

(首圖來源:科技新報)



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