多重曝光
實話實說,國產光刻機雖有進步,但落後ASML還有20年左右
前段時間,大家都被一則消息刷屏了,那就是國產光刻機有了進步,國家權威機構公布了一台氟化氬光刻機,光源是193nm,分辨率≤65nm,...