再有美芯拋棄EUV，ASML腸子都悔青了，難怪供應中國的光刻機倍增 日前消息指Intel發展的無需EUV光刻機的芯片制造工藝DSA技術取得突破，已達到14納米，如此一來拋棄EUV光刻機的芯片企業又多了...
