日前消息指Intel發展的無需EUV光刻機的芯片制造工藝DSA技術取得突破，已達到14納米，如此一來拋棄EUV光刻機的芯片企業又多了一家，這對於一直遵從美國要求的ASML來說無疑是巨大的打擊。

一、芯片企業陸續研發繞开EUV光刻機的技術

最先研發成功無需EUV光刻機的無疑是日本的佳能，佳能研發的納米壓印技術（簡稱NIL）無需EUV光刻機，目前已突破10納米，預計最終將達到5納米工藝，該工藝已被日本的鎧俠採用。

日本芯片行業研發NIL工藝其實是一種無奈，當年佳能、尼康等日本光刻機企業主要發展幹式光刻技術，ASML則通過與台積電研發浸潤式光刻技術迅速將它們擠壓，導致日本光刻機行業迅速衰落，再到美國聯合ASML研發EUV光刻機，日本光刻機行業徹底衰落，眼見着在技術上無法與ASML較量，於是佳能就選擇了無需EUV光刻機的NIL技術，以尋求生存空間。

第二家則是美國芯片企業美光，美光研發的1β工藝也無需EUV光刻機，美光研發1β工藝是爲了利用現有的DUV光刻機進一步提升芯片性能，降低生產成本，畢竟EUV光刻機的價格至少是DUV光刻機的三倍，而且所需要的生產材料等成本也更高。

如今Intel則是第三家，Intel研發DSA主要也是考慮生產成本，如今的Intel早已沒有當年的風光，AMD依靠Zen架構不斷求搶佔市場，在桌面PC市場已超越Intel，這是自2007年以來首次，AMD還在服務器芯片市場打开局面，服務器芯片可是Intel的主要利潤來源，這直接導致Intel已連續三個季度出現虧損。

爲了降低成本，如今Intel可謂採取了多種辦法，去年至今已裁員過萬人，如今研發DSA技術無疑也是爲了進一步降低生產成本，避免採購更多EUV光刻機，同時採用DSA技術還能進一步提升芯片性能。

二、ASML腸子都悔青了

近幾年來ASML可謂對美國言聽計從，美國從2018年就要求ASML不要將EUV光刻機賣給中國的芯片企業，去年下半年以來美國又要求ASML不要對中國出售14納米以下的DUV光刻機，到了近期更計劃進一步阻止ASML出售28納米以下DUV光刻機，ASML基本上遵從了。

由於遵從了美國的要求，ASML從中國市場獲得的收入佔比迅速從2022年一季度的三成下降到一成左右，去年ASML的業績還取得了增長，這一度讓ASML的高管放言即使失去中國市場也不會對它造成影響。

然而隨着中國芯片自給率的上升，芯片採購量持續下滑，從去年至今中國減少的芯片進口量高達1500億顆，开始對全球芯片市場產生影響，美國芯片企業大多出現業績下滑，美國芯片的業績下滑紛紛減少芯片訂單乃至要求台積電降低代工價格，這就導致台積電縮減了芯片產能，自然不再大規模採購光刻機，最終對ASML造成影響。

美國連續兩家芯片企業美光和Intel都意圖繞开EUV光刻機，這進一步對ASML造成影響，EUV光刻機爲ASML的大部分利潤來源，美國芯片企業減少EUV光刻機採購量將讓ASML備受壓力。ASML已積極遵從美國的要求，而美國芯片企業卻絲毫不給面子，反而在拋开ASML的光刻機，如此情況可以說ASML真的是後悔得腸子都青了。

二季度ASML公布的業績則體現了ASML的另一重考慮，它的業績顯示二季度對中國的光刻機銷售量達到27台，而此前的一季度對中國的光刻機銷量僅爲8台，環比增長超兩倍，顯示出ASML趁着在9月份執行更嚴格的光刻機出口限制的窗口期大舉對中國出售光刻機。

顯然ASML面對着美國芯片行業的做法已有自己的想法，那就是不能再完全聽從美國的指令，而要考慮到企業的生存，因此趁機積極對中國供應光刻機，畢竟對於企業來說，利益才是第一考慮，這也說明中國市場對ASML的重要性反而增加了。

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標題：再有美芯拋棄EUV，ASML腸子都悔青了，難怪供應中國的光刻機倍增

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