目前在芯片行業，大規模制造採用的均是光刻工藝。

而光刻工藝下，最重要的設備就是光刻機，而光刻機與芯片制程，也是一一對應的。

如下圖所示，不同的光刻機，採用不同的光源，對應不同的工藝制程。

目前最先進的是EUV光刻機，採用13.5nm波長的光源，可以制造7nm及以下的芯片。

而EUV光刻機，全球僅ASML一家能夠制造出來，其它所有廠商，都無法制造。而ASML又聽話，不能將EUV光刻機賣給中國、俄羅斯這樣的國家。

所以說，是ASML卡住了所有想進入7nm以下工藝的晶圓的脖子，包括中國晶圓廠，也包括俄羅斯的晶圓廠。

所以一直以來，衆多的企業，都在研發光刻機，特別是EUV光刻機，或者繞开EUV光刻機，找到另外的，可以進入7nm工藝以下的路线。

佳能採用的是NIL納米壓印技術，但其缺點很多，比如產能很低，無法大規模量產芯片。

而俄羅斯，之有也表示要用X射线來研發這樣的光刻機，但事實證明，俄羅斯也只是想一想，利用X射线，無法實現7nm以下芯片的光线，精度達不到。

而近日，有媒體報道稱，兜兜轉轉幾年之後，俄羅斯覺得X射頻不行，還是要採用EUV方案才行，要研發EUV光刻機

不過ASML現在的EUV方案，俄羅斯肯定實現不了，用激光來轟擊錫珠，最後產生極紫外线，這個俄羅斯也辦不到，畢竟很多供應鏈已經被ASML綁定了，所以只能另闢蹊徑。

俄羅斯計劃採用11.2nm的鐳射光源，比ASML的13.5nm波長更短，那么理論上精度會更高，更爲先進。

而如何產生11.2nm波長的光源？俄羅斯的做法是利氙（xenon）基鐳射光源，說是這樣比ASML 的EUV系統更經濟。

不過，說實話，吹牛大家還是會的，俄羅斯能不能做出來，很多人還是有疑問的，畢竟現在俄羅斯連90nm的光刻機都制造不出來，一步就想登天到EUV，怎么可能？

所以外界猜測，就算俄羅斯真的有這打算，那至少需要上十年的時間來研發，還要花費巨資，而俄羅斯明顯沒有這個實力和能力，所以只是吹牛而已。

不過，假如這個方案是可行的，俄羅斯研發不出來，我們未必研發不出來啊，但問題這個方案究竟行不行，誰也不清楚。

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標題：俄羅斯放大招了？自研EUV光刻機，11.2nm光源，比ASML更先進

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