特用化學材料廠 12 月 23 日將舉辦上櫃前業績發表會，並將以競價拍賣搭配公開申購方式配售初次上櫃前現金增資股票，預計 2025 年 1 月中旬掛牌上櫃，董事長詹文雄表示，隨著 2 奈米將在 2025 下半年量產，新應材的「洗邊劑」和「底部抗反射層」已打入 2 奈米，成為最大營運動能。

詹文雄表示，新應材成立自 2003 年，以面板及半導體光學元件光阻材料自主研發與量產實績為基礎，2018 年積極轉型投入半導體先進製程，並聚焦在良率關鍵的微影（Lithography）特化材料開發，主力產品為半導體先進製程光阻週邊的表面改質劑（Rinse），為微影製程良率關鍵材料。

詹文雄指出，新應材目前已是台灣唯一在半導體微影製程，從原料合成、純化到配方自主設計，並持續擴大量產規模的特化材料廠商，未來將持續朝奈米級微影特化材料發展，包含即將到來的 2 奈米，以及未來 1.4 奈米製程的關鍵材料，可有效提升先進微影製程終端應用的良率。

詹文雄分享，半導體特化材料開發及驗證時間長，新應材擁有四大關鍵競爭優勢，包括一、從配方開發向上整合自建原料合成能力；二、建立本土材料供應鏈策略聯盟；三、快速回應及高學習曲線；四、優異的品質控管及自主設計製程技術，已搶佔與國際材料大廠競爭的有利位置。

產能規劃方面，詹文雄指出，目前是龍潭廠做材料開發、高雄廠一期負責純化及合成、台南廠做配方，而擴建的 「高雄廠二期」預計今年底完工，預計 2025 年獲得驗證後，2026 年初將可正式量產，屆時總產能將可滿足 2 奈米量產後最大需求。

詹文雄強調，新應材未來將持續投入半導體微影製程特化材料開發技術，期望提供客戶高品質且多元的產品，目前除以光阻週邊特化材料為發展基礎外，已成功開發 DUV 光阻，可應用半導體微影製程及光學元件製程，有望成為本土第一家半導體光阻供應商。

新應材目前資本額為 8.22 億元，2023 年淨利為 3 億 1,837 萬元，每股盈餘（EPS）3.91 元；而 2024 年前三季淨利為 6 億 2,979 萬元，年增 133%，其中半導體營收佔比已超過 78%，並持續成長。

（首圖來源：科技新報）

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