Canon:奈米壓印降低先進製程生產成本,拉近與 ASML 差距

2023-12-26 07:10:00    編輯: Atkinson
導讀 全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon),10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後,日前執行長御手洗富士夫表示,新奈米壓印技術為小型半導體商生產...


全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon),10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後,日前執行長御手洗富士夫表示,新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路,不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。

Canon 半導體設備業務部長巖本和德表示,奈米壓印就是把印有半導體電路圖的光罩壓印到晶圓上,只壓印一次,就可在合適位置形成複雜 2D 或 3D 電路圖,如果改進光罩,甚至能生產 2 奈米晶片。Canon 奈米壓印可生產最小 5 奈米製程體。5 奈米製程先進半導體製造設備市場由 ASML 的 EUV 曝光機主導,Canon 奈米壓印或許有機會縮小與 ASML 的差距。

設備成本方面,巖本和德表示,客戶成本因條件各異,估算一次壓印工序成本有時能降至傳統曝光設備工序的一半。奈米壓印設備體積也較小,較易引進。御手洗富士夫曾表示,奈米壓印設備價格比 ASML EUV 設備少一個零。但最終定價還未公開。

客戶方面,Canon 表示收到半導體廠商、大學、研究所很多詢問,期待是 EUV 的替代品,預估可生產快閃記憶體、個人電腦 DRAM 及邏輯等多種半導體。

(首圖來源:Canon)



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