日本半導體迎來特別時刻 —— 首次引入的量產用 “極紫外光刻機（EUV）” 开始安裝。
據日經亞洲 12 月 19 日報道，日本初創晶圓代工廠 Rapidus 已成功接收其訂購的首台 ASML EUV 光刻機，並於 12 月 14 日开始在北海道芯片制造廠內安裝。 Rapidus 購入的光刻機由荷蘭供應商 ASML 生產，型號爲 NXE:3800E，晶圓吞吐量相較上代提升 37.5%，可以滿足 Rapidus 對於 2nm 芯片的制造需求。 該台 EUV 系統體積龐大，完整設備重達 71 噸，高約 3.4 米，每個完整的單元大約和一頭鯨魚一樣大，它結合了特殊的光源、透鏡和其他技術，對振動和其他幹擾的敏感度較低。 安裝地點位於日本北海道千歲市的創新集成制造工廠（iim-1）。分四階段進行安裝，設備安裝預計在本月底完。 Rapidus CEO 小池淳義表示，公司將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 除 EUV 光刻機外，Rapidus 還將在其 iim-1 工廠安裝更多先進的半導體制造輔助設備以及全自動材料處理系統，以優化 2nm GAA 半導體工藝的制造，並計劃繼續建設新的半導體代工服務，稱爲快速和統一制造服務（rums）。 Rapidus 正在與美國科技巨頭國際商業機器公司 IBM 合作开發多閾值電壓 GAA（全環繞柵極）晶體管技術，計劃在 2025 年春季使用最先進的 2 納米工藝开發原型芯片，並在 2027 年實現量產。 這與台積電計劃 2025 年开始量產 2nm 芯片的時間表相競爭。 ASML 是目前全球唯一的 EUV 光刻機供應商，每台設備成本約 1.8 億美元以上，去年全球僅交貨了 42 台。 日本曾在 1980 年代佔據全球超過 50% 的半導體市場份額，但到 2000 年代已退出先進邏輯制程芯片的競爭。當地政府希望，借由 EUV 光刻工具大規模應用，重振日本先進芯片生產能力。
標題：日本首台 EUV 光刻機开始安裝
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