前不久,我們曾報道日本半導體廠商Rapidus將計劃在2027年量產2nm芯片。如今根據最新消息,Rapidus籌備芯片制造的動作非常迅速,已經成爲日本首家獲得ASML EUV光刻機設備的公司。
12月14日,ASML制造的第一批EUV光刻機系統已經抵達日本新千歲機場。據了解Rapidus從ASML購买的型號爲NXE:3800E光刻機,晶圓吞吐量相較上代提升37.5%,可以滿足Rapidus對於2nm芯片的制造需求。
不過ASML的光刻機系統體積巨大,足足重71噸,Rapidus將分四個階段來進行安裝。Rapidus CEO表示,有了ASML的EUV光刻機設備,接下來Rapidus將從北海道和日本向全球提供最先進的半導體芯片。
Rapidus的2nm芯片是與IBM進行合作,目前Rapidus已經派遣大約150名工程師前往IBM學習生產线管理技術,計劃在2027年順利實現2nm芯片的量產。
雖然這個時間要比芯片制造巨頭台積電要晚兩年,但依然可以幫助日本振興先進芯片的生產能力,降低對進口芯片的依賴。
根據日本政府的預測,2030年全球先進半導體市場預計將達到53兆日元,而日本政府的目標,則是在2030年實現日本國內半導體銷售額達到15兆日元。
此前消息稱Rapidus量產2nm制程芯片需要大約5兆日元的資金,而爲了大力扶持Rapidus,日本政府在今年已經宣布爲Rapidus提供接近2兆日元的補助。再加上索尼、豐田、鎧俠、軟銀等一衆企業共同的支持,Rapidus生產所需的資金肯定是不用愁了,接下來就是看芯片良品率以及在市場上是否有客戶买账了。
標題:ASML賣給日本EUV光刻機:重71噸,幫助Rapidus制造2nm芯片
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