目標將次世代半導體（晶片）國產化，由日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司 Rapidus 正在北海道打造 2 奈米（nm）晶片工廠，目標 2027 年量產，而據悉 Rapidus 決定在 2024 年底導入「EUV」（極紫外光）微影設備，且將派員至荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASMLHolding）學習 EUV 技術。
日本新聞網站 5日引述日刊工業新聞的報導指出，Rapidus已決定將在2024年年底，在興建中的北海道千歲市2奈米工廠內導入EUV微影設備，且Rapidus預期將可在2023年內確保約300名員工，而僱用的約100名工程師將派遣至合作夥伴IBM、ASML，學習EUV微影設備技術。
ASML為全球最大的微影設備廠商，也是全球唯一一家可生產EUV微影設備的業者，而EUV是量產5-7奈米以下最先進晶片所必須的技術，在日本國內、美國美光（Micron）預計2025年以後啟用的廣島新廠也將導入，而Rapidus在2022年8月設立以來，就和ASML建立合作關係，ASML也計劃在千歲市設立技術支援據點。
據報導，Rapidus目標在2027年量產2奈米以下最先進邏輯晶片，位於千歲市的第一座工廠「IIM-1」已在9月動工，試產產線計畫在2025年4月啟用、2027年開始進行量產，而Rapidus目標在正式量產前、確保約1,000名員工。
Rapidus 11月17日宣布，將和加拿大AI晶片新創公司Tenstorrent進行合作、加速AI晶片的研發。Rapidus社長小池淳義11月17日表示，「期待Tenstorrent成為該公司的第一家客戶」。日媒指出，Rapidus將藉由合作，攜手Tenstorrent研發AI晶片，且將來也計劃幫Tenstorrent代工晶片、加深彼此的關係。
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標題：Rapidus 2 奈米廠傳 2024 年底導入EUV，派員至 ASML 學習技術
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