英特爾（Intel Corp.）高層透露，「Intel 4」製程技術的良率高於預期。
南韓媒體TheElec 24日報導，英特爾副總裁兼邏輯科技研發產品工程經理William Grimm在馬來西亞受訪時表示，運用極紫外光（EUV）微影設備，讓該公司得以控制Intel 4的複雜製程。
根據報導，Intel 4被視為7奈米等級製程，是英特爾第一種應用EUV的製程；預定9月揭露的Intel Meteor Lake就會採用Intel 4製程。
半導體顧問機構IC Knowledge之前曾指出，英特爾這款製程效能優於台積電的5奈米，比較接近台積電、三星電子（Samsung Electronics Co.）的3奈米。
Grimm表示，英特爾對照第三方標竿測試，自行評估了「效能/功耗/面積」（指performance、power、area，簡稱PPA）。他並說，Intel 4很難跟其他晶圓廠的前幾代製程互做比較。
Grimm指出，Intel 4製程的重點在於電力效率（power efficiency），Intel 7製程的重點則在於把效能最大化。他說，以Intel 4製程打造的晶片，最適合應用於筆記型電腦。另外，Intel 3 （等同4奈米製程）預定2023年稍晚揭曉。
輝達（Nvidia Corp.）執行長黃仁勳（Jensen Huang）5月30日在台灣與國內外記者進行問答時曾，「我們對於委託英特爾代工抱持開放態度。英特爾執行長Pat Gelsinger之前曾透露輝達正在評估其製程，我們最近也收到英特爾次代製程測試晶片的報告，結果看來不錯。」
英特爾1月曾宣布敲定一筆3奈米晶片訂單，出乎眾人意料。Gelsinger當時表示，「Intel 3製程增添了某家一線客戶，這家客戶是雲端、邊緣運算及資料中心解決方案的領導提供商。」黃仁勳30日的說法引發市場猜測，輝達或許是英特爾所說的未具名新客戶。
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