運營商財經網康釗:恭喜國產光刻機取得重大突破!

2024-09-19 18:10:43    編輯: robot
導讀 運營商財經 康釗/文 近日,工信部發布了《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》,其中顯示,集成電路設備方面,中國已研發成功氟化氬光刻機,光源193納米,分辨率≤65nm,套刻≤...

運營商財經 康釗/文

近日,工信部發布了《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》,其中顯示,集成電路設備方面,中國已研發成功氟化氬光刻機,光源193納米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。那么,這是什么含義呢?其實還有喜有憂。

工信部其實是告知一個重要信息,即國產光刻機技術取得了實質性進步。光刻精度主要看的是光刻機的分辨率,65nm的分辨率,那么單次曝光能夠達到的工藝制程節點大概就在65nm左右,所以,工信部的消息其實意味着國產光刻機已經實現了65納米工藝的重大突破。可千萬別小瞧這個進步,最近,荷蘭遵照美國的意圖,限制光科技巨頭阿斯麥公司向中國出售NXT:1970 和 NXT:1980這兩款光刻機,就是故意卡在65納米工藝上了,中國宣告光刻機突破65納米,美國的這個卡脖子政策也就沒意義了,這就是喜的地方。

憂的地方是,還沒有業內企業說見到了這個光刻機。中國首台(套)重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品,包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。也就是說,這個65納米工藝的國產光刻機還沒到“取得明顯市場業績”的階段,不知中芯國際之後是否會購买並大規模使用。

中國雖然攻克了65納米工藝的光刻機,但距離國際先進水平還相差多遠呢?實際上,荷蘭阿斯麥公司2006年推出的幹式DUV光刻機XT:1450的分辨率就已經達到了57nm,套刻精度爲7nm。所以,65納米的國產DUV光刻機性能與阿斯麥公司的技術實際差距超過18年,美國限制向中國出售的NXT:1970光刻機也是2007年就已推出的,17年前的老款光刻機都對中國不开放,可見美國對中國真是欺負到家了,但這回泡湯了。



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