運營商財經 康釗/文
近日，工信部發布了《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》，其中顯示，集成電路設備方面，中國已研發成功氟化氬光刻機，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。那么，這是什么含義呢？其實還有喜有憂。
工信部其實是告知一個重要信息，即國產光刻機技術取得了實質性進步。光刻精度主要看的是光刻機的分辨率，65nm的分辨率，那么單次曝光能夠達到的工藝制程節點大概就在65nm左右，所以，工信部的消息其實意味着國產光刻機已經實現了65納米工藝的重大突破。可千萬別小瞧這個進步，最近，荷蘭遵照美國的意圖，限制光科技巨頭阿斯麥公司向中國出售NXT：1970 和 NXT：1980這兩款光刻機，就是故意卡在65納米工藝上了，中國宣告光刻機突破65納米，美國的這個卡脖子政策也就沒意義了，這就是喜的地方。
憂的地方是，還沒有業內企業說見到了這個光刻機。中國首台（套）重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。也就是說，這個65納米工藝的國產光刻機還沒到“取得明顯市場業績”的階段，不知中芯國際之後是否會購买並大規模使用。
中國雖然攻克了65納米工藝的光刻機，但距離國際先進水平還相差多遠呢？實際上，荷蘭阿斯麥公司2006年推出的幹式DUV光刻機XT：1450的分辨率就已經達到了57nm，套刻精度爲7nm。所以，65納米的國產DUV光刻機性能與阿斯麥公司的技術實際差距超過18年，美國限制向中國出售的NXT：1970光刻機也是2007年就已推出的，17年前的老款光刻機都對中國不开放，可見美國對中國真是欺負到家了，但這回泡湯了。
標題：運營商財經網康釗：恭喜國產光刻機取得重大突破！
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