運營商財經 康釗/文
近日，工信部印發了《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》，其中顯示中國已攻克氟化氬光刻機，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm，這讓網友歡呼雀躍，因爲這是中國光刻機技術領域裏程碑式的重大突破。
這是中國首個自主知識產權的新型光刻機，其中的套刻是光刻機的一個指標，是多重曝光的意思。氟化氬光刻機是DUV光刻機，比老式的248nm光源的KrF光刻機更先進。中國研發成功了氟化氬光刻機，最起碼意味着光刻機能夠在晶圓上實現非常高的圖案對准精度。這對於生產先進的芯片非常重要，因爲芯片的制造需要在晶圓上進行多次曝光和刻蝕，每次曝光都需要精確對准前一次曝光的圖案。如果套刻精度不夠高，就會導致芯片上的圖案出現偏差，從而影響芯片的性能和良率。
中國此次宣布研發成功的氟化氬光刻機雖然還比不上全球最大的光刻機巨頭阿斯麥公司的光刻機，但起碼比以前有很大進步。在此之前，中國最先 進的光刻機是上海微電子研發成功的90納米光刻機，而此次光刻機分辨率爲≤65nm，套刻精度≤8nm，這並非說就是8納米光刻機，而是65納米光刻機，因爲要制造什么工藝的芯片，其中的光刻機主要是看分辨率，而不是看套刻精度。
中國此次宣布研發成功氟化氬光刻機的時機非常好，此前9月6日，荷蘭宣布，擴大光刻機出口管制範圍至浸沒式深紫外光刻設備，其中甚至包括2007年就已推出的一款老掉牙的光刻機，之所以對中國封殺這么老的光刻機，就是欺負中國連這樣破舊的光刻機都造不出來。此次中國宣布研發成功65納米的氟化氬光刻機，表明中國不稀罕荷蘭的老舊光刻機，無論美國、荷蘭是否封殺，中國反正也不想买這樣的光刻機了，也不需要买了，還是自己生產爲好。
標題：運營商財經網康釗：中國攻克了8納米光刻機技術？
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