導讀 近日，荷蘭光刻機巨頭ASML公司（ASML）宣布，其最新研發的超級EUV（極紫外线）光刻機已具備量產0.2nm工藝的能力，這一裏程碑式的進展無疑將再次引領半導體產業邁入新的高度。 隨着制程工藝的不斷...
近日，荷蘭光刻機巨頭ASML公司（ASML）宣布，其最新研發的超級EUV（極紫外线）光刻機已具備量產0.2nm工藝的能力，這一裏程碑式的進展無疑將再次引領半導體產業邁入新的高度。
隨着制程工藝的不斷縮小，半導體制造技術的難度也在不斷增加。目前，能夠量產的最先進制程工藝來自台積電的3nm技術。然而，ASML正在研發的Hyper NA EUV光刻機，將有望將制程工藝推進到0.2nm。這一技術突破意味着，在不久的將來，我們將能夠生產出集成度更高、性能更強大的芯片。
標題：顛覆性突破！ASML發布超級EUV光刻機：可量產0.2nm工藝
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