導讀 外媒引用晶圓代工龍頭說法報導，即使沒有使用 ASML 最新 High NA EUV 曝光機，台積電也能做出優秀的先進製程。High NA EUV 太貴，2026 年前購買沒有太大經濟意義，現在看來，...
外媒引用晶圓代工龍頭說法報導，即使沒有使用 ASML 最新 High NA EUV 曝光機，台積電也能做出優秀的先進製程。High NA EUV 太貴，2026 年前購買沒有太大經濟意義，現在看來，台積電可能重新考慮，因台積電總裁魏哲家日前祕密訪問 ASML 總部。
Wccftech 報導，台積電對手英特爾將生存賭在 High NA EUV 晶圓代工。首批幾套 High NA EUV 曝光機都是英特爾採購，於 Intel 18A 節點參數試驗與技術學習， 然後生產 Intel 14A 製程。台積電曾公開表示，標準 NA EUV 曝光機仍可生產到 2026 年，奈米片晶體管的 A16 節點也採一樣流程，透過「超級電軌」背面供電，提高晶片的人工智慧效能。
5 月 26 日，台積電總裁魏哲家罕見沒有參加 2024 年技術論壇台北場，而祕密訪問 ASML 荷蘭總部。《韓國商報》報導，ASML 執行長 Christopher Fuke 和雷射光源設備供應商 TRUMPF 執行長 Nicola Leibinger-Kammüller 在社群媒體貼文提到魏哲家行程。市場傳言英特爾拿下首批 High NA EUV 後，魏哲家密訪就是表示也想取得新設備。
台積電計畫 A16 製程後才考慮採用 High NA EUV。但魏哲家密訪 ASML 總部引發議論，也有修正計畫的可能性，且台積電發展路線廣泛。即便獲 High NA EUV，也不代表目前製程就會用。訓練與技術發展關鍵設備，提早取得也不是不可能，之後發展勢必持續關注。
(首圖來源：imec)
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標題：台積電暫不用 High NA EUV 曝光機，可能因一事後有所改變
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