中國若要實現晶片製造完全自給自足，設備是重要一環，雖然目前有蝕刻和沉積設備製造商中微（AMEC）和北方華創，但只有一間曝光設備製造商，即上海微電子（SMEE）。根據最新市場消息，北方華創似乎也準備進入此市場。
中媒《南華早報》報導，北方華創已經開始進行曝光系統的初步研究，最早於 2023 年 12 月已啟動，到 3 月時公司已經組建一個工程師小組來探索曝光系統。
據悉，這些研發工作都在高度保密下進行，避免美國認為它們會繞過現有出口管制，而進行額外制裁。北方華創一位代表指出，這些報導資訊並不準確，也沒透露更多細節。
目前不確定北方華創的曝光研究計畫是否成功，但反映出中國晶片業克服美國制裁的決心。華為和中芯國際成功製造出 7 奈米級智慧手機處理器後，美國政府考慮將幾間與華為技術相關的中國半導體公司列入實體名單，包括晶片工具製造商新凱來（SiCarrier），這間公司近期申請與四倍（quadruple）圖案化（patterning）相關的專利。
據報導，透過將 SAQP 應用於 DUV 設備，中國可製造複雜的 5 奈米級晶片，而不需要僅由 ASML 銷售的更先進 EUV 設備。
研調公司 TechInsights 副董事長 G. Dan Hutcheson 認為，中國 SAQP 研究可能涉及北方華創和上海微電子等公司。其中，新凱來的技術用蝕刻和沉積步驟取代光學曝光步驟，減少對 ASML 生產先進曝光設備的依賴，有助於中國企業採用先進製程製造晶片，而無需使用美國、歐洲或日本最新設備。
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