2023 年年底，曝光機大廠 ASML 開始向英特爾交貨其首個高數值孔徑 High-NA極紫外線 (EUV) 曝光機。上週末，英特爾也發布了一段網路影片，介紹工具於俄勒岡州希爾斯伯勒 (Hillsboro) 附近晶圓廠安裝狀況。英特爾規劃，設備主要研究和開發用。
ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV 曝光機體積非常龐大，運送共需要 250 個棧板，總重量約 33 萬磅。波音 747 貨機將設備從荷蘭運至俄勒岡州波特蘭，然後一輛卡車負責關鍵零件。
設備已入機完畢，但需 250 名 ASML 和英特爾工程師約六個月完全安裝。即使 ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV 完全組裝，ASML 和英特爾工程師仍需校準機器，需耗時數週甚至數月。
ASML High-NA EUV 曝光機以 8 奈米解析度圖形化，增強標準孔徑 EUV 曝光性能，單次曝光解析度僅限 13 奈米，使電晶體尺寸小約 1.7 倍，電晶體密度增加近三倍。8 奈米關鍵尺寸對 3 奈米以下製程至關重要，半導體界希望 2025~2026 年達成這目標。
英特爾將使用 Twinscan EXE:5000 學習如何順暢運用 High-NA EUV，以 Intel 18A 製程測試高數值孔徑曝光機生產，不過不是量產，Intel 14A 才會量產。
ASML 之前說新 High-NA EUV 曝光機價格是標準 EUV 曝光機兩倍以上，約 3.8 億美元（3.5 億歐元），最後價格取決於實際配置。英特爾執行長 Pat Gelsinger 表示機器成本為 4 億美元左右。
標準孔徑 EUV 系統售價約 1.83 億美元（1.7 億歐元），特定型號和配置價格也有不同。英特爾是第一家購入 High-NA EUV 曝光機的廠商，但 ASML 透露英特爾、三星、SK 海力士和台積電等都有下訂 High-NA EUV 曝光機，很快會成主流設備。
(首圖來源：ASML)
標題：英特爾新影片公開 High-NA EUV 曝光機俄勒岡晶圓廠裝機
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