導讀 根據最新消息，英偉達即將推出的下一代GeForce RTX 50系列顯卡（代號Blackwell）將採用最新的台積電3nm工藝制造。同時，該系列顯卡還將使用DisplayPort 2.1標准。據悉，...
根據最新消息，英偉達即將推出的下一代GeForce RTX 50系列顯卡（代號Blackwell）將採用最新的台積電3nm工藝制造。同時，該系列顯卡還將使用DisplayPort 2.1標准。據悉，Blackwell GPU將應用於RTX 50系列顯卡，並且其性能方面將取得顯著提升。
Kopite7kimi透露，英偉達正在准備推出Blackwell GPU，並將其應用到RTX 50系列顯卡中。這些新一代顯卡將建立在台積電的先進3nm工藝上。與目前使用的5nm工藝相比，3nm工藝技術提供了更大幅度的功耗降低和性能增強。每個晶體管的性能提高了約15%，功耗降低了約30%。此外，面積減少了42%，密度增加了1.7倍。這意味着即便是在現有的40系“Ada Lovelace”陣容中，“5nm”節點已經提供了驚人的每瓦性能效率，因此人們對50系顯卡的提升抱有很高期望。
至於具體型號的3nm節點選擇，目前還爲時尚早。因爲這一技術至少有兩種不同的風格可供選擇，包括標准的N3、更高效、更注重性能的設計的N3E、N3P和N3A。
與此同時，英偉達遊戲卡也將使用GDDR7內存解決方案，這將是多年來高性能計算和遊戲卡首次採用相同命名約定的架構。不過，在40系顯卡上取消DP 2.1功能可能是一個遺憾，但英偉達顯然將在其即將推出的圖形架構中支持最新技術。
除此之外，在2024年底或2025年初時，我們有望看到GeForce RTX 50系列顯卡（代號Blackwell）正式亮相。（數據來源：wccftech）
標題：英偉達新旗艦GPU Blackwell曝光：將支持DP 2.1技術
地址：https://www.utechfun.com/post/293270.html