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日本半導體設備大廠 Canon Inc. 透露，新「奈米壓印」（Nano-imprint Lithography，NIL）微影設備售價只有龍頭廠艾司摩爾（ASML Holding N.V.）最佳機台的幾分之一。
彭博社5日，Canon執行長御手洗富士夫（Fujio Mitarai）受訪時表示，最新NIL技術讓小型半導體廠也有機會生產目前幾乎全由大企業寡佔的先進晶片。他說，「機台售價將比ASML的極紫外光（EUV）微影設備少一位數（one digit less）」，不過，最終價位尚未敲定。
御手洗表示，Canon也許無法賣至中國。「就我理解，14奈米以下技術都禁止，因此我不認為能販售。」他並說，NIL設備需要的電力只要EUV十分之一；雖然NIL應難取代EUV，但相信這能創造新的機會和需求，已有許多客戶洽詢。
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標題：Canon：NIL 售價比 ASML EUV 少一位數，難賣至中國
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