日本尼康宣布全新ArF浸沒式光刻機:精度小於2.1納米、價格便宜30% 尼康計劃於2024年1月推出其最新款ArF 193納米浸沒式光刻機"NSR-S636E",該產品將提升生產效率和套刻精度。這款曝光機...
尼康宣布推出全新ArF浸沒式光刻機NSR-S636E,生產效率提升15% 12月9日消息,根據日本光刻機大廠尼康(Nikon)官方消息,其將於2024年1月正式發布ArF浸沒式光刻機NSR-S636E。尼康...