全球目前僅一家企業，能夠制造EUV光刻機，那就是荷蘭的ASML。

而目前全球的芯片規模制造工藝，都是採用光刻工藝，所以進入7nm以下時，必須用到EUV光刻機，這就很明顯了，EUV光刻機，已經是決定晶圓廠，能不能進入7nm以下的關鍵設備了。

所以美國早就禁止ASML將EUV光刻機，賣到中國市場來，美國害怕中國制造出7nm以下的芯片了。

前段時間有大佬說ASML的EUV光刻機，研發了20年，花了1500億。可能很多人就奇怪了，爲何EUV光刻機只有ASML一家能制造？那我們花20年，1500億，能不能研發出來？

事實上，EUV光刻機的壟斷，並不整整只是技術性的，有很多方面的原因。

EUV光刻機其實並不是ASML研發出來的，實際上是美國的廠商們，聯手研發出來的。

當時在進入浸潤式DUV之後，193nm波長的光源，經水折射變成134nm後，光刻機廠商們，不知道道路往哪走了，不知道繼續研發這種折射，還是採用更短波長的光源。

於是在1996年，當時芯片領域大佬英特爾出現，聯合了美國幾家芯片廠，還有幾個國家實驗室，研發EUV光刻機，覺得下一步應該從13.5nm的極紫外线入手。

當時英特爾是芯片霸主，地位很超然，根本就不愁錢，拿出了數十億美元，然後和這些實驗室們，大約花了4年時間，把EUV光刻機研發了出來，不過不是規模生產，只是搞出了一個模型，但這個模型從理論研究，到論證，基本上都跑通了一遍。

而在制造時，英特爾又不想搞了，覺得自己是芯片企業，才不搞光刻機呢，還是交給其它企業去幹吧，於是就找到了ASML，讓ASML來制造，將全套技術交給了ASML。

不過，也不是白給的，交給ASML之後，英特爾入股了ASML，還拉上台積電、三星一起入股ASML,一方面是爲了保證資金，二是爲了讓ASML不脫離掌控，三是讓ASML的光刻機有客戶。

而ASML拿到英特爾給的方案後，實際上也花了10多年，直到2013年左右，才生產出第一台EUV光刻機。

所以從研發到實際生產，從美國intel到荷蘭ASML，一共花了18年左右時間，至於具體花了多少錢，並沒有對外公开，機構猜測，應該是超過了1000億元。

ASML推出了EUV光刻機，因爲其誕生的原因很復雜，所以優先是考慮三大晶圓廠，然後還要考慮美國的利益。

後來ASML更是聯手了美國的一些財團，將整個EUV光刻機產業鏈，聯合到了一起，捆綁成一個大集體了，比如蔡司等。

所以，後來的企業，要想研發出EUV光刻機，就更加困難了，不僅僅要搞定技術，還相當於要重組產業鏈，原有的產業鏈，已經被ASML綁定了。

這也是爲何佳能等企業，研發5nm以下芯片制造工具時，基本不研發EUV，而是選擇NIL、DSA等技術的原因，因爲重建產業鏈，遠比EUV研發更復雜。

ASML的EUV光刻機，其實是美國掌握整個芯片產業的工具，地位超然，美國一定程度上也會想方設法阻撓其它企業研發出來。

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標題：ASML研發EUV光刻機，用了20年，1500億，那我們能復制么？

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