導讀 半導體曝光機大廠 ASML 宣布，與韓國三星電子簽署備忘錄，共同投資 1 兆韓圜（約新台幣 230 億元）建立研究中心，並用下一代極紫外（EUV）曝光機研究先進半導體製程技術。ASML 也宣布與 S...
半導體曝光機大廠 ASML 宣布，與韓國三星電子簽署備忘錄，共同投資 1 兆韓圜（約新台幣 230 億元）建立研究中心，並用下一代極紫外（EUV）曝光機研究先進半導體製程技術。ASML 也宣布與 SK 海力士簽署 ESG 備忘錄，雙方在環境、社會和公司治理專案合作。
11 月初消息，三星五年內從 ASML 採購 50 套設備，每套單價約 2,000 億韓圜，總價值可達 10 兆韓圜（約新台幣 2,300 億元）。
三星 2022 年 6 月推出全球首個採用全柵極（GAA）技術 3 奈米製程，努力確保採購更多 EUV 曝光機，目標是 2024 上半年進入第二代 3 奈米製程，2025 年進入 2 奈米，2027 年進入 1.4 奈米。
三星集團董事長李在鎔 2022 年 6 月拜訪 ASML 總部，與 ASML 執行長 Peter Bennink 討論 EUV 採購，同年 11 月與拜訪韓國的 Peter Bennink 進一步會談。鑒於 EUV 曝光機從下訂到交貨至少需一年，討論現在才開花結果。
ASML 曾表示，年底發表首台商用 High-NA (NA=0.55) EUV 曝光機，2025 年量產出貨。2025 年客戶就能從數值孔徑為 0.33 傳統 EUV 多重圖案化，切換到數值孔徑為 0.55 High-NA EUV 單一圖案化，降低製程成本，提高產量。High-NA EUV 曝光機將有五大客戶：英特爾、台積電、三星、SK 海力士、美光。ASML 與三星才會與三星加強合作 EUV 曝光機。
(首圖來源：ASML)
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標題：ASML 與三星簽署備忘錄，韓國建立研究中心
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